2022.05.31 ALE 장비 양산 도입 가시화
[NH투자증권 도현우, 임지용] IMW 2022에서 본 반도체 공정 트렌드

DRAM에서 ALE는 전하 저장 커패시터의 형태와 구성을 최적화하는데 사용될 수 있다. DRAM 커패시터용 고유전율 물질은 적정 두께로 성장시킨 후 결정화해야한다. 최근 커패시터 유전막은 두께가 수nm 수준이라 결정화에 어려움을 겪는다. 이경우 비정질 필름으로 유전막을 증착한 다음 결정화하고 ALE 공정을 추가하면 더얇으면서도 높은 커패시턴스를 유지하는 필름을 형성할 수 있다. ALE 장비를 가장 적극적으로 개발하고 있는 회사는 미국의 Lam Research이다.

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